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臺(tái)式燈加熱裝置MILA-5050的用途和特長(zhǎng)

更新時(shí)間:2023-10-11      瀏覽次數(shù):375

臺(tái)式燈加熱裝置MILA-5050

本裝置是可進(jìn)行試料尺寸最大為50mm見(jiàn)方的熱處理的臺(tái)式燈加熱裝置。

作為試料尺寸最大20mm見(jiàn)方的加熱裝置,臺(tái)式燈加熱裝置MILA-5000系列自上市以來(lái),一直受到廣大客戶的喜愛(ài),但為了滿足“想對(duì)更大的試料進(jìn)行

熱處理"的客戶要求,加熱爐、腔室、溫度控制器

用途

  • Si晶片、化合物晶片高速加熱
  • 光CVD基板加熱等電子材料的高速加熱
  • 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等熱處理
  • 熱循環(huán)試驗(yàn)
  • 金屬材料的退火
  • 涂層膜的耐熱評(píng)價(jià)
  • 有機(jī)材料、樹脂類的加熱、干燥

特長(zhǎng)

  • 試樣尺寸最大可熱處理至50mm見(jiàn)方
  • 最高溫度為1200℃
  • 一種將可高速加熱冷卻紅外線金像爐、加熱腔、溫度控制器一體化的臺(tái)式加熱裝置
  • 可通過(guò)手持計(jì)算機(jī)輕松執(zhí)行溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)的輸入
  • 可以在電腦上顯示加熱中的溫度數(shù)據(jù)

規(guī)格

溫度范圍RT ~ 1200℃
升溫速度50℃ /s
試樣尺寸角50或φ 50mm ×厚5mm
加熱氣氛真空中、各種氣流中
工藝壓力10Pa ~大氣壓


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