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雙折射分布即時可視化透明成型產(chǎn)品2D雙折射評價裝置的測量原理

更新時間:2025-01-06      瀏覽次數(shù):183

雙折射分布即時可視化透明成型產(chǎn)品2D雙折射評價裝置的測量原理

Photonic Lattice 光子晶格

PA-200

主要特點

實現(xiàn)光學元件的“雙折射評價”?。?/font>

即時可視化透明成型產(chǎn)品(例如透鏡、光盤、Doko 板等)
的雙折射分布。

二維雙折射評價裝置PA-200外觀

測量數(shù)據(jù)示例
軟件圖形用戶界面屏幕
雙折射面內分布的高速定量評價

多種圖形顯示功能

雙折射分布的 3D 顯示,顯示高度上的雙折射量

配備易于使用的專用軟件PA-View

可以進行視頻拍攝和分析。 (選項)

還有一種用于測量微量樣品的顯微鏡類型(PA-micro)。 (新發(fā)布)

雙折射分布的測量原理

由于強大的內應力或扭曲的晶體結構,折射率可能會根據(jù)方向略有變化。 這稱為雙折射。
雙折射物質具有改變穿過其的光的偏振狀態(tài)的特性,廣泛應用于液晶面板、光盤等物品。
雙折射測量有時也用于評估內應力。

然而,由于測量雙折射通常需要時間,因此即使需要定量測量表面分布,也可以使用多個點的點測量作為替代方案。
使用PA200,您可以通過簡單的操作快速測量雙折射的表面分布。 這使得測量整個樣品及其整個表面成為可能。

利用兩種獨的特的技術來快速測量雙折射的表面分布。

技術1:頭部內置偏光圖像傳感器
該傳感器與偏振相機 PI00 類似,可讓您即時捕捉偏振光平面分布的圖像。
技術2:高速偏振測量算法
通過對每個像素進行高速高級偏振計算的程序,首的次的實現(xiàn)了高速雙折射測量。

操作簡單。
首先,在不放置待測物體的情況下拍攝光源。
您只需將樣品放在其上,然后單擊測量按鈕即可依次測量樣品整個表面的雙折射分布。

頭部內部結構輪廓由于雙折射而改變偏振的示例雙折射測量的基本原理

主要規(guī)格

 

PA-200

PA-200-L

測量

測量范圍

0~130nm

重復性

1.0nm以下

傳感器單元

雙折射像素數(shù)

1120×868(≒100萬)像素

測量波長

520nm

住房

尺寸

270×340×560毫米

430×490×910毫米

測量區(qū)域大小

27×36mm~99×132mm(標準鏡頭)

36×48mm~240×320mm(標準鏡頭)

3.6×4.8 mm ~ 12.9×17.2mm(變焦鏡頭*可選)

重量

18公斤

24公斤

其他的

界面

GigE(相機信號)

電源/電流消耗

AC100~240V(50/60Hz) / ~6.0A

軟件

PA-視圖

配件

筆記本電腦、標準鏡頭、使用說明書

1) 可測量范圍因測量材料而異。
*產(chǎn)品規(guī)格如有更改,恕不另行通知。
*本產(chǎn)品可測量的內部畸變是光學測量的,測量值顯示為光學相位差(單位:nm)。

 

 

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