NASGiken的簡易微量金屬污染物回收裝置是一種專門用于半導(dǎo)體制造和納米技術(shù)領(lǐng)域中，從硅晶片表面和側(cè)面回收微量金屬污染物的設(shè)備。以下是關(guān)于該裝置的詳細(xì)介紹：
產(chǎn)品特點(diǎn)
自動(dòng)化操作：設(shè)備可以自動(dòng)完成采樣液的供給、支架具的裝卸以及采樣液的回收，從而減少操作員引起的污染。
多種采樣模式：通過與計(jì)算機(jī)聯(lián)機(jī)，可選擇豐富多樣的采樣模式，包括圓環(huán)形、扇形、固定半徑、圓弧等，還能對(duì)晶圓正面以及端面的微量金屬污染物進(jìn)行采樣操作。
適用性廣泛：對(duì)于硅材質(zhì)以外的晶圓、由于基體蝕刻等導(dǎo)致表面粗糙的晶圓也可進(jìn)行采樣操作。
減少人為污染：采樣操作由設(shè)備自動(dòng)完成，無需熟練工就可輕松完成采樣操作。
自動(dòng)清洗功能：具備自動(dòng)清洗盛裝收集液體的容器的功能，降低人為污染的風(fēng)險(xiǎn)，并減少工作人員之間分析準(zhǔn)確性的差異。
技術(shù)規(guī)格
應(yīng)用場(chǎng)景
主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程中，對(duì)硅晶片進(jìn)行表面和側(cè)面的微量金屬污染物分析。適用于需要高精度和高效率分析的環(huán)境，如半導(dǎo)體制造廠、材料研究機(jī)構(gòu)等。
優(yōu)勢(shì)
提高分析效率和準(zhǔn)確性：通過減少人為污染和提高采樣精度，有助于提高半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。
專的利技術(shù)：擁有對(duì)硅晶圓端面污染物采樣的“端面采樣"技術(shù)已取得國際專的利，對(duì)親水晶圓的采樣技術(shù)也已取得國內(nèi)專的利。
完善的售后服務(wù)：原則上，有海內(nèi)外的維修委托時(shí)，在48小時(shí)內(nèi)與用戶進(jìn)行聯(lián)系溝通。
型號(hào)對(duì)比
| 設(shè)備名稱 | SC-3100 | SC-8150 | SC-9100 | SC-9200 |
|---|
| 操作控制 | 電腦 | 手動(dòng) | 自動(dòng) | 自動(dòng) |
| 支架具的裝/卸 | 自動(dòng) | 手動(dòng) | 自動(dòng) | 自動(dòng) |
| 采樣液的供給 | 自動(dòng) | 手動(dòng) | 自動(dòng) | 自動(dòng) |
| 采樣液的回收 | 自動(dòng) | 手動(dòng) | 自動(dòng) | 自動(dòng) |
| 采樣基本模式 | 圓環(huán)形、扇形、固定半徑、圓弧 | - | - | - |
| 采樣追加模式 | 端面、弧形、長方形 | - | - | - |
| 晶圓排片 | 對(duì)圓環(huán)形、固定半徑、端面采樣模式有追加項(xiàng) | - | - | - |
| 吸取式采樣 | 〇 | - | 〇 | 〇 |
| 親水面采樣 | - | 〇 | 〇 | 〇 |
| 外形尺寸(WxDxH)(mm) | 600×494×600 | 600×494×700 | 600×494×790 | 690×550×790 |
| 重量 | 35Kg | 40Kg | 50Kg | 55Kg |
| 安裝環(huán)境 | 無塵通風(fēng)柜內(nèi) | - | - | - |
| 所需外部資源 | 電源(100～240VAC)、純凈水、干潔氣源 | 電源(100～240VAC)、N2、干潔氣源 | 電源(100～240VAC)、純凈水、N2、干潔氣源 | 電源(100～240VAC)、純凈水、N2、干潔氣源 |
NASGiken的簡易微量金屬污染物回收裝置以其高效的污染物收集能力、自動(dòng)化操作和技術(shù)，為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域提供了一種創(chuàng)新的解決方案。
更新時(shí)間：2025-07-26 
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